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在氫化鋯表面制備釔預制層后進行微弧氧化，成功形成了富含四方相氧化鋯(M-ZrO2)與[(ZrO2)0.972(Y2O3)0.028]0.973復合膜層，提高了膜層的致密性和抗裂紋性能。釔元素在膜層中的分布呈現梯度變化，致密層中無裂紋，且越接近基體致密性越高，顯著增強了膜層的阻氫性能。
在氫化鋯表面制備釔預制層后進行微弧氧化，成功形成了富含四方相氧化鋯(M-ZrO2)與[(ZrO2)0.972(Y2O3)0.028]0.973復合膜層，提高了膜層的致密性和抗裂紋性能。釔元素在膜層中的分布呈現梯度變化，致密層中無裂紋，且越接近基體致密性越高，顯著增強了膜層的阻氫性能。 收起+
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