科佳1400度三溫區管式爐采用雙層殼體結構,氧化鋁纖維爐膛,三個溫區分別單獨控制,可在三個溫區內設置不同的燒結溫度,智能PID30段控溫,控溫精度高;真空不銹鋼法蘭密封,可配合我公司真空泵和氣路使用。 該高溫氣氛管式爐是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及真空狀態下對金屬,非金屬及其它化合物進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、氣氛還原燒結、CVD實驗、真空退火﹑熔化﹑物質成分測量分析而研制的專用理想設備。
火試金法是一種經典的貴金屬分析方法,通過高溫熔融樣品,將貴金屬與其他雜質分離,最終測定其含量。
該系列回轉窯用于黑色、有色金屬、黑色金屬、輕燒、焙燒、還原及廢物處理等工藝需求,使用溫度600~1300之間。
RTP快速退火爐由我公司自主研發的功能強大的加熱設備。該產品采用進口紅外線加熱管加熱,造型新穎結構合理,爐體和爐管可以自由滑動,可實現快速升降溫。爐管內尺寸120MM,可以直接放下4英寸的材料。試樣反應區處在一個密閉的石英腔體內,在完成生產工藝的同時,也大大降低了間接污染試樣的可能性。
CY-T1200-80IT-MRTP型智能型滑動式快速退火爐是一款多功能的高溫實驗設備,適用于冶金、材料科學、納米技術、半導體制造等多個領域。該設備采用一體化爐膛設計,最高工作溫度可達1200℃,升溫速率≤20℃/min,具備優良的溫度控制精度(±1℃)。其獨特的滑動式爐體結構,配合高精度滑軌,可實現快速升溫和降溫,有效提升實驗效率。
CY-RTP1000-Φ200-300-V-T型鹵素燈RTP立式快速退火爐是一款專為半導體及材料科學領域設計的高性能設備。該設備采用革新的鹵素燈加熱技術,能夠實現真正的基底溫度測量,無需傳統溫度補償,溫度控制精準且重復性高。其溫度范圍為150-1250℃,加熱速率可達10-150℃/S,具備優異的溫度均勻性和快速升溫能力。此外,設備配備不銹鋼冷壁真空腔室,真空度可達5×10?3 Torr甚至低至5×10?? Torr,兼容常壓和多種氣氛環境,適合多種材料的退火處理。其快速數字PID溫度控制和觸摸屏操作界面,進一步提升了系統的穩定性和易用性。
CY-RTP1000-Φ300-T型1200℃快速退火爐是一款專為半導體及材料研究領域設計的高性能設備。該設備采用革新的加熱技術,配備紅外鹵素管燈加熱,能夠實現真正的基片溫度測量,無需傳統溫度補償,確保溫度控制的精準性和重復性。其不銹鋼冷壁真空腔室設計,結合高真空分子泵組,可將真空度降低至5×10?? Torr,有效避免材料污染,提升退火質量。此外,設備配備快速數字PID溫度控制、觸摸屏操作界面以及兼容常壓和真空環境的多功能設計,適用于多種材料的熱處理和退火工藝,是半導體制造和材料科學實驗中的理想選擇。
全自動齒輪高頻淬火設備是一種高效、智能化的熱處理設備,廣泛應用于冶金及機械加工領域。該設備適用于各種工件的淬火和回火,如軸類、齒輪類、導軌類、盤狀類、銷類等零件的感應淬火。它具備連續淬火、同時淬火、分段連續淬火、分段同時淬火等多種功能,能夠通過數控系統或PLC及變頻調速系統實現工件定位、掃描,并與感應電源聯機,完成全自動化生產。
120kW高頻加熱退火設備是冶金加工領域中高效、節能且性能卓越的熱處理設備,廣泛應用于軸類、齒輪、鏈輪、機床導軌、五金工具、汽摩配件、不銹鋼、銅線淬火以及鋼帶退火等多種熱處理工藝。該設備頻率范圍為25-35kHz,能夠精準控制淬硬層深度(1.5-4mm),淬火后硬度符合HT200-HT300材料的HRC45-53標準,且變形量極小。采用國際先進的IGBT器件,相比傳統可控硅中頻設備,效率提升30%-40%,節電效果顯著。其串聯諧振電路拓撲設計確保感應器安全隔離,避免了傳統設備的電壓安全隱患。