遼寧沈陽有色金屬真空冶金設備

高真空多功能真空鍍膜機 285     

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高真空多功能真空鍍膜機是一種集成了多種鍍膜技術(如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、離子鍍等)的先進設備，能夠在高真空環境下實現不同類型的薄膜沉積，滿足科研與工業中對復雜薄膜的需求。

真空熱蒸發鍍膜系統 313     

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真空熱蒸發鍍膜系統是一種常見的物理氣相沉積(PVD)技術，通過加熱蒸發材料使其在真空環境中氣化，隨后凝結在基片表面形成薄膜。

多功能蒸鍍設備 350     

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多功能蒸鍍設備（Multi-functional Deposition System）是集成了多種PVD技術（如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射等）的復合型鍍膜設備，通常具備：模塊化真空腔體設計，多類型蒸發源/濺射靶兼容，基片多自由度運動系統，實時膜厚監測能力，輔助離子源/加熱裝置。

高真空多源熱蒸發設備 309     

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高真空多源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱原理的物理氣相沉積(PVD)設備，通過多個獨立可控蒸發源(通常2-14個)，在高真空環境(10??~10?? Pa)下實現：單質/合金薄膜的共蒸，多層復合結構沉積，梯度成分材料制備。

14源電阻式熱蒸發設備 296     

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14源電阻式熱蒸發設備是一種超多材料共蒸系統，通過高真空環境（10??~10?? Pa）和電阻加熱蒸發，實現復雜組分薄膜的精確制備。

三源熱蒸發設備 306     

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三源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱蒸發的鍍膜系統，配備3個獨立蒸發源，可在高真空（10??~10?? Pa）環境下沉積金屬或化合物薄膜。

高真空金屬鍍膜儀 286     

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高真空金屬鍍膜儀是一種利用物理氣相沉積（PVD）技術在真空環境中沉積金屬薄膜的設備，廣泛應用于科研、電子、光學及精密制造領域。其核心特點是高真空環境（10??~10?? Pa）和金屬蒸發/濺射鍍膜技術，可制備高純度、高均勻性的金屬薄膜（如Au、Ag、Al、Cu等）。

高真空六源熱蒸發設備 305     

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高真空六源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱蒸發原理的鍍膜設備，配備6個獨立蒸發源，可在高真空（10??~10?? Pa）環境下實現多材料共蒸或順序沉積，適用于復雜組分薄膜的制備。

團簇式高真空多功能鍍膜設備 301     

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團簇式高真空多功能鍍膜設備是一種模塊化、多腔室集成的先進鍍膜系統，可在高真空或超高真空（10??~10?? Pa）環境下實現多種鍍膜工藝的連續處理，避免樣品暴露大氣，提高鍍膜質量和效率。

單室四源高真空電阻式鍍膜設備 307     

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1、真空室腔體:1套。外形：304優質不銹鋼D形前后開門真空室腔體1套，后門采用鉸鏈式方門，方便清洗真空腔體，真空室內部調試，維修以及取放物品，前門采用橫拉方門，真空室內部尺寸D350*480mm，前后門各配DN100視窗1套; 底部：有機源接口4套，JTFB-600風冷復合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美國MCVAC水冷膜厚探頭接口2套;

單室八源電阻式鍍膜設備 296     

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真空室腔體:1套；外形：304優質不銹鋼D形前后開門(后門采用鉸鏈式方門，方便清洗真空腔體，真空室內部調試，維修以及取放物品，前門采用橫拉方門)真空室腔體1套(真空室內部尺寸D400*480mm)，前后門各配DN100視窗1套; 底部：金屬蒸發源接口8套， JTFB-600風冷復合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美國MCVAC水冷膜厚探頭接口2套; 頂部：樣品臺接口1套，電動擋板接口1套，KF16氣動角閥接口1套;

超高溫超高真空蒸餾爐 366     

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該設備是一臺超高溫超高真空蒸餾爐，主要利用不同成分在相同溫度下蒸汽壓及冷凝溫度不同的原理，用于高熔點稀有或稀土金屬熔煉及蒸餾提純。

雙室高真空鍍膜設備 296     

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一、電子束水冷樣品臺組件1件： 1、旋轉：57CM23步進電機，1件光電限位開關（前后兩點）； 2、升降：57CM23步進電機，配速比1:5減速器，升降2點接觸限位開關，觸摸屏上顯示電子束高點400mm，低點300mm，金屬源高點340mm，低點240mm，另取1點，可隨意定位； 3、樣品臺擋板：24V減速電機，2件限位開關。

單室高真空電阻式鍍膜設備 374     

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鍍膜設備以蒸發源為主體，適用于實驗室制備金屬單質、氧化物等，也可用作教學及生產線前期工藝試驗等，整套設備操作簡便，綜合功能多，擴展空間大，適合及滿足大專院校的教學與科研工作。

真空高溫石墨化爐 380     

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真空高溫石墨化爐主要用于 C/C的石墨化燒結處理。復合材料具有優異的綜合性能，特別適于高溫領域，如航空、航天等方面。典型應用為飛機的渦輪 、剎車盤、活塞、機翼前緣、鼻錐等。

真空補焊箱（機匣等） 285     

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真空補焊箱（機匣等）主要用于鑄件在保護氣氛下補焊工作，焊后無氧化。

真空除氣爐（石墨膜殼） 312     

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凝殼爐鑄造用石墨型殼、陶瓷型殼真空下除氣處理及金屬材料的淬火后的回火及各種材料、零件真空下的脫脂除氣。

鈦合金真空退火爐 334     

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鈦合金真空退火爐主要用于鈦合金板材、管材等真空退火，能夠實現真空退火過程工藝參數檢測與全過程優化控制。

底裝式高壓固溶設備（盤管、直管） 395     

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主要用于石油、石化領域潔凈不銹鋼及航空、電力能源領域等薄壁不銹鋼管的退火、時效處理;也用于奧氏體不銹鋼管、鐵鎳基耐蝕合金管及高溫合金管等管棒材的固溶處理。

真空連續熱處理設備（直管、盤管） 314     

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主要用于電力能源領域、航空航天領域鎳基高溫合金管及馬氏體不銹鋼管等產品的退火、及時效處理等;也用于奧氏體不銹鋼管、鐵鎳基耐蝕合金管及高溫合金管等管棒材的固溶處理。

大型立式真空高壓固溶時效成套設備（直管、盤管） 383     

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主要用于電力能源領域、航空航天領域鎳基高溫合金管及馬氏體不銹鋼管等產品的退火、正火、回火及時效處理等;也用于奧氏體不銹鋼管、鐵鎳基耐蝕合金管及高溫合金管等管棒材的固溶處理，能夠實現真空高壓氣淬、真空回火、真空退火及消除應力等熱處理工藝。

真空超高溫超高壓爐（氣壓） 385     

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真空超高溫超高壓爐主要用于粉末成型、預織成型工件的脫脂，也可用于高溫加壓燒結、浸滲增強、晶體轉化生長、化合反應等工藝，采用電阻加熱。

真空超高溫超高壓爐(機械加壓） 406     

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真空超高溫超高壓爐(機械加壓）主要用于在一定溫度、壓力下，兩個和兩個以上表面之間的原子級擴散連接，產品應用于能源、航天、航空等領域。

專用脫脂燒結爐（注射成型MIM） 329     

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專用脫脂燒結爐（注射成型MIM）主要用于鐵基、不銹鋼、鈦合金、合金鋼和高速鋼等材料的注射成型制品的脫脂和燒結。

真空燒結爐（氧化鋁粉） 318     

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真空燒結爐（氧化鋁粉）主要用于氧化鋁粉、特種陶瓷、高純氧化鋁塊、超純氧化鋁餅在保護氣氛下的連續燒成 。

真空高溫燒結爐（碳碳、碳碳-碳陶復合材料） 367     

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真空高溫燒結爐（碳碳、碳碳-碳陶復合材料）主要用于碳/碳復合材料、碳/碳-碳/陶復合材料的高溫石墨化、高溫提純處理。

真空高溫燒結爐（碳化硅、氮化硅） 347     

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真空高溫燒結爐（碳化硅、氮化硅）主要用于SiC陶瓷制品的反應燒結、無壓燒結、重結晶燒結、熱等靜壓燒結，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的燒結。

真空高溫燒結爐（石墨提純） 345     

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真空高溫燒結爐（石墨提純）主要用于石墨制品等的高溫石墨化、高溫提純處理。

真空鎢網爐/連續生產線 （電力能源燃料芯塊） 334     

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真空鎢網爐/連續生產線 主要用于電力能源燃料芯塊及燃料小球、燃料大球的燒結處理。

真空燒結爐（碳納米管） 289     

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真空燒結爐（碳納米管）主要用于制備大型納米碳材料，如碳納米管粉、碳納米管薄膜和定向碳納米管制備。