有色金屬設備

真空精密鑄造爐（VPIC） 470     

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真空精密鑄造爐主要用于生產最先進的高溫合金鑄件，廣泛應用于航空航天、燃氣輪機、醫療器械、能源發電等領域。傳統工藝生產的鑄件具有隨機取向的晶粒結構，也就是常說的等軸晶（EQ）。等軸晶鑄造前模殼需事先根據工藝要求進行預熱，接著將預熱好的模殼放入鑄模室并快速轉移至熔煉室，然后將熔煉好的金屬液快速在熔煉室真空環境下澆鑄至模殼中。

真空感應熔煉爐（VIM） 465     

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真空感應熔煉爐（VIM）是在真空條件下利用中頻感應加熱原理對金屬進行熔煉的成套真空裝備。真空感應爐通常由熔煉室、鑄模室、上加料室、側加料室、流槽室、隔離閥、感應熔煉電源、三相工頻攪拌電源、感應爐體、真空系統、液壓系統、閉式冷卻水系統、壓縮空氣系統、氬氣系統及導電短網等部件組成，可根據客戶不同的需求進行模塊化設計。感應爐體位于真空熔煉室內，感應爐體內打結了耐火材料的坩堝，感應線圈位于耐火材料坩堝外圍，感應線圈使用前做了特殊的絕緣和耐熱處理，避免了真空下線圈打弧現象。

立式高溫石墨化爐 458     

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立式高溫石墨化爐是一種高溫爐，用于石墨化實驗和各種碳材料的生產。其特點是升溫快、效率高、溫度分布均勻。該爐采用雙層氧化鋁磚保溫，防止短路，確保隔熱、防火和穩定性。它具有數字流量監控系統和全面的 PLC 水、電、氣自動控制和保護系統。

大型立式石墨化爐 455     

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大型立式高溫石墨化爐是一種用于碳纖維和炭黑等碳材料石墨化的工業爐。它是一種高溫爐，溫度最高可達 3100°C。該爐通常用于生產大型碳碳復合材料，如碳碳坩堝和碳碳圓柱體。該爐還可用于炭黑和碳纖維等大量碳材料的石墨化。

臥式高溫石墨化爐 472     

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石墨化爐是生產碳產品和碳材料的關鍵設備。它用于石墨化實驗和各種碳材料的生產，最高溫度可達 3100°C。該爐擅長碳材料的石墨化和碳纖維絲的定型石墨化。它可以配置多個電爐，以適應不同的燒結過程時間，并通過交替供電和冷卻實現連續運行。

超高溫石墨化爐 498     

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超高溫石墨化爐利用真空或惰性氣體環境中的中頻感應加熱。感應線圈產生交變磁場，在石墨坩堝中產生渦流，從而加熱并向工件輻射熱量，使其達到所需的溫度。該爐主要用于碳材料、碳纖維材料和其他復合材料的石墨化和燒結。它由爐體、爐蓋、加熱傳感器、隔熱層、電極抽取裝置、水循環分配系統、真空系統、溫度控制系統等組成。電氣系統包括一個 60KVA、IGBT 晶體管中頻電源和水冷電纜，配有各種指示儀表和報警功能?？刂撇糠植捎?15 英寸觸摸屏和可編程控制器 PLC。

連續工作的電加熱熱解爐設備 470     

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電轉爐是一種以電為熱源的工業爐。它常用于各種材料的煅燒和干燥，包括磷酸鐵、磷酸鐵鋰、錳酸鋰、陰極石墨、三氧化鈷、陰極硅碳、氫氧化鋰、粉末除碳、氧化鋅、氧化鐵、氧化錳、稀土材料和有色金屬。該爐的特點是加熱速度快、能效高、經久耐用。它采用鎳基合金爐管，可承受高達 1100℃ 的連續工作溫度，確保了使用壽命和可靠性。此外，該爐采用優質碳化硅（SiC）加熱元件，可延長使用壽命并簡化維護。

電回轉煅燒爐 455     

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電加熱回轉窯是一種外加熱回轉爐，其加熱源為清潔電力，工作溫度控制精度高。電加熱回轉窯廣泛應用于正負極材料（磷酸鐵鋁、錳酸鋰、鈷酸鋰、三元、石墨負極等）、稀土材料、化工催化材料、磁性材料、粉末冶金材料、有色金屬材料以及高嶺土等非金屬礦物材料的粉狀或顆粒狀材料的煅燒和干燥、高溫反應、熱處理、碳化等。

1200℃ 馬弗爐 422     

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KT-12M 馬弗爐采用日本高純度多晶氧化鋁纖維保溫，內嵌摻鉬耐熱加熱絲線圈，加熱速度高達每分鐘 30 度，工作溫度高達 1200C；PID 智能溫度微處理器，控溫精度高，溫度均勻性好。

底部升降爐 458     

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KT-BL 爐底升降爐具有良好的溫度均勻性，便于產品批量生產，其加熱元件布置在爐膛的四面，可形成良好的加熱輻射場；爐底升降爐可配備 2 個電動升降產品裝載臺，操作員可在另一個臺處于加熱室時將產品裝載到第二個臺上，從而大大提高了生產效率。

高溫脫脂和預燒結爐 440     

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KT-MD 排膠預燒結一體爐廣泛應用于各種成型工藝陶瓷材料的排膠和預燒結，如氮化鋁、氮化硅、氧化鋁、氧化鋯和介電陶瓷等精細陶瓷元件，以及陶瓷粉體材料、磁性材料、LTCC、MLCC、NTC、NFC、陶瓷磁芯等電子元件的排膠、預燒結和燒結一體化工藝。

高壓管式爐 459     

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高壓管式爐是一種專用設備，用于冶金、玻璃和熱處理等多個行業，在可控氣氛下加工材料。它采用中頻感應加熱來達到高溫，這對粉末燒結和金屬變形校正等工藝至關重要。該爐具有可選的真空或改良氣氛設置以及用于精確控溫的高質量加熱元件等功能，可確保樣品的完整性并防止污染。

立式管式爐 445     

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垂直管式爐是一種實驗室設備，用于在受控大氣條件下對材料進行高溫處理。它由一根垂直方向的石英管組成，石英管封閉在一個加熱室內，可以實現精確的溫度控制和均勻的熱量分布。這些爐子通常用于各種應用，包括熱處理、淬火、退火、晶體生長和化學氣相沉積（CVD）涂層。立式管式爐具有可編程溫度控制器、真空密封功能和用于樣品處理的專用附件等先進功能，為材料加工提供了多功能性和精確性。垂直管式爐能夠產生可控氣氛并達到高溫，是研發、材料科學和工業應用領域的重要工具。

加熱管爐 455     

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RTP 快速加熱管爐可在極短的時間內加熱到目標高溫。它廣泛應用于通過 CVD 解決方案對大尺寸石墨烯袍進行加熱處理。通過不同的真空泵站設置，RTP 快速加熱管爐可在可控氣氛環境和高真空環境下工作，創建理想的熱處理室。最高加熱速度可達每秒 100℃，最高冷卻速度可達每秒 110℃。它有一個用于固定爐管法蘭的滑軌，方便將爐管從加熱保溫室中抽出。溫度傳感器與樣品架接觸，可獲得更精確的溫度控制和指示。

多區管式爐 435     

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多區管式爐是一種多功能實驗室設備，專為高溫應用而設計。它具有多個獨立控制的加熱區，可實現精確的溫度梯度或均勻加熱。管式爐通常配備高純度石英管或氧化鋁管，用于盛放樣品和加熱。

1400℃帶氧化鋁管的管式爐 420     

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帶氧化鋁管的管式爐是一種實驗室設備，用于高達 1500°C 的高溫應用。它通常用于研究和工業環境中的各種工藝，如材料合成、化學氣相沉積、真空燒結和熱處理。該爐由一個加熱元件（通常由碳化硅（SiC）制成）和一個氧化鋁陶瓷管組成。氧化鋁管具有出色的隔熱性能和耐高溫、耐酸堿性。

1200℃ 帶石英管的分體式管式爐 430     

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帶石英管的 1200℃ 分管爐是一種高溫實驗室設備，設計用于在惰性氣氛中進行精確熱處理。它配備了 30 段可編程溫度控制器，加熱和冷卻速度可達每分鐘 15°C。該爐的適用溫度高達 1200°C，包括一個真空泵和氧化鋁陶瓷端塞等附件，可實現均勻的溫度分布。非常適合需要可控環境和高溫的研究和測試。

氫氣氣氛爐 466     

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氫氣氣氛爐的結構采用了加熱室整體真空密封技術，隔熱室和加熱元件均內置在一個加強型真空室中，其結構類似于真空手套箱的設計，操作人員可使用真空泵將室內空氣吸盡，直至負壓為-0.1Mpa，然后將惰性氣體涌入室內，以達到良好的可控氣氛環境。KT-AH 型氫氣氣氛爐是一種感應氣體氣氛爐，可使用氫氣進行燒結或退火工藝。氫氣爐的絕緣材料為多晶陶瓷纖維，加熱元件為高純度鉬絲加熱器，爐內裝有氫氣安全泄漏檢測器和排放氫氣自動點火裝置。

1200℃ 可控氣氛爐 445     

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可控氣氛爐是一種可將一種或多種氣體引入加熱室的爐子，這些氣體可與被加熱材料發生反應，使其免受空氣中氧氣和水蒸氣的影響。這種爐子有多種用途，包括熱處理、釬焊、焊接和退火。

網帶式可控氣氛爐 435     

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網帶式可控氣氛爐是一種可在露天和可控氣氛環境中工作的連續式生產爐。它主要用于厚膜電路、電阻器、電容器和電感器等電子元件的高溫燒結工藝。該爐采用精選陶瓷纖維加熱器，反應迅速，溫度均勻；采用輕質陶瓷纖維隔熱材料，能耗低；采用網帶傳動系統，傳動穩定；采用多獨立溫度熱區控制，調節靈活。它還可選配網帶超聲波清洗系統和中央計算機控制裝置。該爐可進行定制，以滿足特定的工藝要求，包括氣氛、溫度和產量。

火花等離子燒結爐 SPS 爐 485     

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火花等離子燒結（SPS）是一種快速材料制備方法，它利用脈沖電流直接在模具中燒結材料。它將等離子活化、熱壓和電阻加熱結合在一起，與傳統燒結方法相比具有多項優勢。SPS 能夠實現均勻加熱、高加熱率、低燒結溫度、短燒結時間和高生產效率。此外，它還能凈化表面，抑制晶粒生長，有利于生產出均勻、可控的結構。與傳統燒結法相比，SPS 具有環保、成本效益高、操作時間短等優點。

真空管熱壓爐 455     

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真空管式熱壓爐集真空/氣氛、熱壓成形和高溫燒結于一體。它適用于干粉冶金和功能陶瓷等新材料的高溫熱成型。金屬組成的合金材料的真空燒結和陶瓷材料碳化硅、氮化硅的高溫燒結也可用于干粉或主要成分熔點溫度較低的粉碎。通過冶金結合增加其強度。

真空層壓機 506     

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真空層壓機是一種集液壓機、電加熱和真空手套箱于一體的多功能設備。通過在液壓機板中嵌入電加熱板、隔熱和循環水冷卻，可防止液壓機結構溫度過高。壓板位于真空手套箱內，可產生真空，為對氧氣敏感的加工產品提供潔凈的環境。

熱壓爐 527     

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真空熱壓爐是在真空或大氣條件下對材料進行加熱和加壓的成套設備。根據材料和加熱溫度的不同，加熱元件可采用石墨加熱器、鉬加熱器、感應加熱等；加壓方式可采用單向或雙向液壓加壓。

傾斜旋轉式管式爐設備 442     

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KT-PE16 傾斜旋轉式 PECVD 爐 PECVD 爐由一個 500W 射頻等離子源、一個雙區 TF-1200 管式爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標準真空站組成。爐子的最高工作溫度可達 1600℃。工作溫度高達 1600℃，爐管為直徑 60mm 的 Al2O2 陶瓷管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 1 臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10Pa。

帶液體氣化器的滑動 PECVD 管式爐 400     

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KT-PE12 帶液體氣化器的滑動 PECVD 系統由一個 500W 射頻等離子源、一個 TF-1200 滑動爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標準真空站組成。爐腔軌道滑動系統，可實現快速加熱和快速冷卻，可選配輔助強制空氣循環風扇，加快冷卻速度；可選配滑動自動工作裝置；最高工作溫度可達 1200℃。工作溫度最高可達 1200℃，爐管為一根直徑 60 毫米的石英管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為一臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達 10P。真空壓力可達 10Pa。

多加熱區 CVD 管式爐 554     

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KT-CTF14 多區 CVD 爐有 2 個加熱區，最高工作溫度可達 1200℃，爐管為直徑 60mm 的石英管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達 10Pa。真空壓力可達 10Pa。

CVD 管式爐 519     

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帶真空站的分體式 CVD 管式爐是一款多功能、高性能的實驗室設備，專為化學氣相沉積 (CVD) 應用而設計。它采用分體式爐腔，便于接觸反應樣品和快速冷卻。爐管由高溫石英制成，直徑為 60 毫米。該系統包括一個 4 通道 MFC 質量流量計，配有 CH4、H2、O2 和 N2 源氣體，可對氣體流速進行精確控制。真空站采用 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10 Pa。帶真空站的分室 CVD 管式爐具有先進的功能和性能，是材料科學、半導體加工和其他領域各種研發應用的理想選擇。

非消耗性真空電弧爐 445     

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非消耗性真空電弧爐（又稱真空鈕扣爐）的電極由鎢等高熔點材料制成，在爐料熔煉過程中基本不會消耗。目前，它僅用于實驗室研究和制造難熔金屬和金屬碳化物。它是最早的真空電弧爐之一。該爐體積小，占地面積小，操作簡便，不需要專業人員和專業技能。它操作封閉，無輻射，對人體無害，對環境無污染，樣品制備速度快。目前，它主要用于實驗室研究和制造難熔金屬和金屬碳化物。

鎢真空爐 464     

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鎢真空爐是一種高溫爐，專為材料科學和工程領域的廣泛應用而設計。它的最高溫度為 2200 ℃，在 2200 ℃ 時冷態極限真空度為 10-5 Pa，熱態極限真空度為 3 × 10-3 Pa。該爐采用成熟先進的外圍和真空系統設計，優化了全金屬熱區的配置。它具有精確的溫度控制、高真空度和友好的用戶界面。2200 ℃ 鎢真空爐是研究人員和工程師處理鎢、石墨烯和碳化硅等高溫材料的理想工具。