權利要求書: 1.一種太陽能電池的電注入再生方法,其特征在于,包括如下步驟:提供太陽能電池結構,所述太陽能電池結構包括自下而上設置的襯底層、窗口層、光吸收層、過渡層以及背電極層,其中,所述過渡層包括含銅材料層,所述光吸收層包括至少一個硒化鎘/碲化鎘循環單元構成的疊層結構,形成所述窗口層的方法包括磁控濺射法,形成所述光吸收層的方法包括空間升華法;
對所述光吸收層進行活化退火處理以形成摻硒梯度的硒化鎘/摻硒碲化鎘/碲化鎘復合層,對所述太陽能電池結構進行電注入以使所述含銅材料層中的銅離子遷移釘扎,其中,所述硒化鎘/摻硒碲化鎘/碲化鎘復合層阻擋銅離子向所述窗口層擴散。
2.根據權利要求1所述的太陽能電池的電注入再生方法,其特征在于,形成所述太陽能電池結構的方法包括:
提供所述襯底層;
于所述襯底層上形成所述窗口層,其中,所述窗口層包括摻鎂氧化鋅層;
于所述窗口層上形成所述光吸收層;
于所述光吸收層上形成所述過渡層;
于所述過渡層上形成背電極層。
3.根據權利要求1所述的太陽能電池的電注入再生方法,其特征在于,所述活化退火處理的退火溫度介于350℃?600℃之間,退火時間介于5min?40min之間。
4.根據權利要求1所述的太陽能電池的電注入再生方法,其特征在于,所述硒化鎘材料層的厚度介于100nm?400nm之間,所述碲化鎘材料層的厚度介于2000nm?4000nm之間。
5.根據權利要求1所述的太陽能電池的電注入再生方法,其特征在于,形成所述光吸收層后且在形成所述過渡層之前還包括步驟:將形成有所述光吸收層后的結構置于酸液中進行蝕刻清洗,再在經過所述刻蝕清洗后的所述光吸收層上形成所述過渡層。
6.根據權利要求1所述的太陽能電池的電注入再生方法,其特征在于,所述過渡層還包括碲化鋅層,所述含銅材料層包括含銅碲化鋅層,其中,所述碲化鋅層形成于所述光吸收層表面,所述含銅材料層形成于所述碲化鋅層表面。
7.根據權利要求6所述的太陽能電池的電注入再生方法,其特征在于,形成所述過渡層之后形成所述背電極層,且在形成所述背電極層之后還包括進行銅擴散退火的步驟。
8.根據權利要求6所述的太陽能電池的電注入再生方法,其特征在于,所述含銅碲化鋅層中銅的含量介于1%?10%之間;采用磁控濺射工藝形成所述碲化鋅層及所述含
聲明:
“太陽能電池的電注入再生方法及基于電注入的太陽能電池” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)