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    磁控濺射法制備TiCoSb半導體薄膜

    811   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:33:13
    本發明公開了磁控濺射法制備TiCoSb半導體薄膜，涉及無機化合物功能薄膜制備技術領域及磁控濺射技術領域。其特征在于是通過一種特殊設計的復合靶材，利用普通磁控濺射及后退火處理得到成分分布均勻的、符合化學計量比的多元素化合物TiCoSb薄膜。其主要工藝參數為：濺射功率20W，工作氣壓0.7Pa，濺射時間60-120min，快速退火時間1-5min，常規退火時間30-120min。本發明實現了TiCoSb材料的薄膜化，為對其熱電和光電性能的進一步研究及對其在薄膜熱電、光電器件領域的應用有相當積極的作用。
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    火法冶金
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