本發明公開了一種陽離子選擇性隔膜的制備方法,具體涉及一種用于金屬電積精煉行業的陽離子選擇性隔膜的制備方法。本發明將納米級二氧化錳摻雜在機聚合物(聚偏氟乙烯、苯乙烯)中,經磺化、水解引入磺酸基團制成基膜;然后對基膜采用等離子體輻照預活化-浸泡接枝液-等離子體輻照接枝三步法引入酚基基團制備陽離子選擇性隔膜。該膜具有選擇透過性高,尤其是對氯離子阻擋率,化學穩定性良好,耐酸堿及氧化性,機械強度高的優點。
聲明:
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