本發明涉及一種真空熔煉除渣裝置,該裝置位于熔煉坩堝(22)上方,包括:水平運動機構,用于帶動水平運動框架(4)實現水平方向的移動;升降機構,用于帶動升降框架(5)的上升和下降;旋轉機構,用于帶動濾渣盤(14)旋轉除渣;所述的升降機構位于水平運動框架(4)內,所述的旋轉機構與升降機構轉動連接。與現有技術相比,該裝置采用水冷和防塵結構對電路系統及運動配件實施保護,可保障設備在高溫環境中長期運行,提升了設備的整體耐用度和運行可靠性。本發明適用于真空熔煉設備,電氣化控制程度高,操作簡單,除渣效果顯著,是提升真空熔煉生產效率及相關金屬制品品質的先進技術手段。
聲明:
“真空熔煉除渣裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)