本發明揭示了一種干法轉印光刻膠制備微納結構的方法。本發明通過對襯底進行修飾以降低光刻膠與襯底的粘附力,然后在光刻膠上曝光并顯影得到所需的結構,再利用黏貼層選擇性的把光刻膠從襯底上剝離,把剝離下來的光刻膠轉移釋放到所需要的襯底上,然后鍍金屬并lift?off處理,本發明突破了傳統加工對襯底材料,形狀和尺寸的限制,可實現任意襯底上微納結構的制備。
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