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    一步可控合成多種形貌Zn-Cd-S半導體納米復合材料的制備方法

    1009   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 16:42:01
    ZnxCd1-xS納米復合材料的制備方法，在具有溫度梯度的管式爐中，以配備有抽真空裝置的石英管為反應器，將CdS或ZnS放置于反應器中部，反應溫度800-900℃，升溫速率400-600℃/小時；相應的將ZnCl2或CdCl2放置于反應器氬氣流進氣口一端，反應溫度300-700℃；表面鍍金的Si100片放置于氬氣流出氣口一側作為樣品生長的襯底，反應溫度400-650℃；硫化物和氯化物原料的摩爾比為1∶2-2∶1，氬氣吹掃時間0.5-3小時，氬氣流速15-60毫升/分鐘，x為0.2至0.95。本發明工藝簡單、成本低、過程容易控制，無污染，樣品形貌豐富、選擇性高、重復性好。
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