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    基于反應離子刻蝕的薄膜微光學結構的制備方法

    1033   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 00:25:31
    本發明公開了一種基于反應離子刻蝕的薄膜微光學結構的制備方法，將飛秒激光加工技術、反應離子刻蝕與化學機械拋光技術相結合，使得片上大尺寸高品質微光學器件的制備和大規模集成為可能。制備方法主要包括在薄膜表面鍍金屬層、飛秒激光選擇性燒蝕金屬膜或光刻選擇性去除金屬膜、化學機械拋光、電感耦合等離子體刻蝕等。本發明方法制備的片上微光學器件具有極高的表面光潔度，極低的光學損耗。該方法適用于在各種片上薄膜(包含但不限于鈮酸鋰單晶薄膜、石英薄膜、硅薄膜、二氧化硅薄膜、金剛石薄膜等)上制備高品質的微光學結構(包含但不限于微盤腔、微環腔、光波導及其耦合器件)。
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