本發明涉及一種多層復合光催化薄膜材料及其制備方法和應用,由AgInS2薄膜和ZnO薄膜多層復合,結構通式為[AgInS2(X)/ZnO(y)]n,其中x和y分別表示單個踱膜循環中AgInS2薄膜和ZnO薄膜的厚度,且1<x<30nm,1<y<30nm,n為復合鍍膜的疊加數,且1<n<5。先將玻璃基片轉動到AgInS2靶材的正上方射頻磁控濺射鍍膜,再將玻璃基片的轉盤轉動到ZnO靶材的正上方射頻磁控濺射鍍膜制得。本發明利用三元的AgInS2量子點特性與二元的氧化鋅的納米材料的能帶結構,拓寬了光催化材料的禁帶寬度,實現了光催化劑應用由紫外光向可見光方向的拓展,提高了降解廢水的強度和效率。
聲明:
“多層復合光催化薄膜材料及其制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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