本發明公開了一種梯度高硅鋼的制備工藝,將錳、鈮、釩等微量合金元素、純度金屬硅和純鐵按比例放入高頻真空感應加熱爐中,抽真空澆鑄成FeSi合金錠,然后加工成陰極靶材,備用;將上述陰極靶材放置于鍍膜室,氬氣作為濺射氣體進行陰極離子鍍;使表層硅含量達到6.5wt%左右;再退火、涂層,并進行磁性能檢測。本發明通過利用改進硅鋼成分和多弧離子鍍膜制備技術來制備梯度高硅鋼薄板,通過陰極電弧放電在靶材表面附近產生的等離子體,改善反應離子鍍膜質量。使得表層硅含量6.5%,內部呈梯度分布,按一定的梯度逐一遞減,電阻率高,磁導率高,磁通集中在表面,渦流也集中在表面,損耗小,內部硅含量低于6.5%,總的損耗低的6.5%硅鋼。
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