本發明提供了一種膜厚測量方法和化學機械拋光設備,其中,方法包括:線下測試步驟,在該步驟中獲取在不同提離高度下、不同膜厚對應的膜厚傳感器的輸出信號值,擬合得到用于表征輸出信號值、提離高度和膜厚之間函數關系的靜態方程,其中,提離高度為膜厚傳感器距晶圓的距離;線上測試步驟,在該步驟中獲取拋光墊厚度以及在化學機械拋光設備上進行拋光時膜厚傳感器的輸出信號值,利用靜態方程計算得到晶圓的計算膜厚,根據計算膜厚與晶圓的實際膜厚之間的偏差,得到用于修正靜態方程的動態方程;實際測量步驟,在該步驟中根據靜態方程和動態方程,基于當前工況下的拋光墊厚度,將膜厚傳感器在線測量時的輸出信號值轉換為最終的膜厚。
聲明:
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