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    一維排列雙面錯嵌式三維探測器及其制備方法、陣列

    1165   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:28:48
    本發明公開了一種一維排列雙面錯嵌式三維探測器及其制備方法、陣列，包括第一溝槽電極和第二溝槽電極，第一溝槽電極刻蝕和第二溝槽電極分別刻蝕在第三半導體基體表面；第一溝槽電極內嵌有第一中央電極，第一中央電極和第一溝槽電極間填充有第一半導體基體；第二溝槽電極內嵌有第二中央電極，第二溝槽電極和第二中央電極間填充有第二半導體基體；第一溝槽電極和第二溝槽電極的外寬均為2RX，第二溝槽電極位于第一溝槽電極下方，且兩者垂直相距d3、水平相距Rx。通過吸雜氧化工藝在芯片表面生成二氧化硅層，然后經標記與光刻將探測器圖形轉移到二氧化硅層上，再進行陰極電極和陽極電極的刻蝕和化學沉積擴散，最后進行損傷修復及封裝。
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    “一維排列雙面錯嵌式三維探測器及其制備方法、陣列” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    化學分析
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