本實用新型涉及化學機械拋光技術領域,具體而言,涉及一種拋光機;拋光機包括基盤、拋光墊、拋光頭、溫度傳感器和水冷組件,拋光墊設置于基盤的第一端面;拋光頭設置于拋光墊的上方,且拋光頭用于設置待拋光的晶片,在晶片設置于拋光頭的情況下,晶片位于拋光頭和拋光墊之間;溫度傳感器設置于基盤,用于檢測拋光墊的溫度;水冷組件用于將冷卻水輸送至基盤的第二端面。本實用新型的拋光機能夠改善拋光溫度控制的誤差和滯后性,提高控制的準確性和穩定性,進而改善拋光的質量和成功率。
聲明:
“拋光機” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)