一種納米級銀針尖的高重現性制備方法,涉及STM?TERS銀針尖的電化學刻蝕制備方法。1)待刻蝕銀絲前處理:刻蝕用銀絲在使用前需要用硼氫化鈉溶液浸泡,以除去表面氧化層;2)電化學刻蝕裝置選擇:刻蝕裝置選用兩電極體系和三電極體系;3)銀絲的電化學刻蝕:選擇合適的刻蝕劑和刻蝕條件對銀絲進行電化學刻蝕,到達刻蝕終點時及時切斷電路,銀絲末端形成尖銳光滑的針尖,即得納米級銀針尖。硫氰酸鉀刻蝕劑無毒無害,制備的納米級銀針尖表面光滑,末端尖銳,納米級銀針尖的曲率半徑在100nm以下,具有STM?TERS增強活性。不僅可用于STM成像,還可用于TERS測試,具有高成像質量和高TERS活性。
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