本發明公開了一種可見到近紅外波段高效光吸收體、制備方法及裝置,該吸收體包括襯底和在襯底上依次沉積的金屬薄膜層、電介質薄膜層和氮化鈦薄膜層,所述氮化鈦薄膜層表面為經過激光處理的顆粒表層。本發明利用飛秒激光照射金屬?電介質?氮化鈦薄膜,可誘導與空氣接觸的氮化鈦薄膜層的化學反應,產生氧化物顆粒的堆積,形成粒徑(幾十到幾百納米)隨機分布的氧化鈦顆粒。本發明采用的氮化鈦薄膜具有價格便宜、損傷閾值高等優點。利用激光處理表面形成自組織微納結構具有偏振不敏感,制造工藝簡單,可在任意指定位置快速制備任意形狀的高吸收體等優點。本發明在太陽能收集、光催化增強、超快光電探測器件等領域具有廣泛的商用前景。
聲明:
“寬波段薄膜高吸收體、制備方法及裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)