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    半導體器件和制作方法

    899   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:01:26
    本申請提供了一種半導體器件和制作方法。該半導體器件包括：襯底；第一絕緣層，位于襯底的表面上；電極層，位于第一絕緣層的遠離襯底的表面上；第二絕緣層，位于電極層的遠離第一絕緣層的表面上，第二絕緣層具有間隔設置的多個通孔，各通孔使得電極層的部分表面裸露，第二絕緣層的材料和/或第一絕緣層的材料包括非晶碳化硅。該半導體器件中第一絕緣層的材料和/或第二絕緣層的材料為非晶碳化硅，該材料可以有效防止由于海水腐蝕造成的器件失效的問題，極大的提高了半導體器件的使用壽命。此外，碳化硅對于強酸強堿等強腐蝕性溶液，也有很好的抗腐蝕性，可以較好的滿足海水原位檢測的應用。
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    聲明：
    “半導體器件和制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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