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    溝槽式MOSFET的制造方法

    1137   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:37:11
    本發明提供一種溝槽式MOSFET的制造方法，通過在形成溝槽后去除抗反射涂層之前，先在所述溝槽的側壁和底部上形成一層氧化硅保護層，然后再使用加熱至一定溫度的磷酸來腐蝕去除抗反射涂層，可以避免所述磷酸對所述溝槽側壁和底部造成損傷；在去除抗反射涂層后，去除所述氧化硅保護層，而后在所述溝槽內形成的柵氧化層具有較高的質量，在測試或使用的過程中不會出現破損而形成柵極與源極的泄露通道，進而使得整個溝槽式MOSFET器件失效的問題。
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    聲明：
    “溝槽式MOSFET的制造方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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