1200℃-PECVD管式爐系統(等離子增強化學氣相沉積系統)由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成， 本設備借助13.56Mhz的射頻輸出使含有薄膜組成原子的氣體電離，在真空腔體內形成等離子體，利用等離子的強化學活性，改善反應條件，使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術，最終得到基片上沉積出所期望的薄膜。

引領未來材料科技，中杭嘉悅精彩亮相第四屆固態電池大會