CVD(G)系列高溫真空氣氛管式爐專門設計用于高溫CVD工藝。如ZnO納米結構的可控生長、氮化硅渡膜、陶瓷基片導電率測試、陶瓷電容器(MLCC)氣氛燒結等等。 窯爐采用氧化鋁纖維制品隔熱、保溫,優質硅鉬棒加熱,優質99剛玉管爐膛,氣體采用浮子流量計流量計控制。進口單回路智能溫度控制儀控制,有效的實現溫度的控制。設備具有溫度均勻、控制穩定、升溫速度快、節能、使用溫度高、壽命長等特點,是理想的科研設備。
技術參數
l 設備名稱:高溫真空氣氛管式爐
l 設備型號: CVD(G)-06/50/1
l 最高溫度: 1650℃
l 工作溫度: RT~1600℃
l 加熱區長度:500mm 恒溫區:300mm
l 爐管實際尺寸: Φ60(外徑)×1250mm (具體尺寸以設計圖紙為準)
l 爐管材質: 優質99剛玉管
l 爐膛材料: 氧化鋁、高鋁和硅酸鋁纖維制品
l 控制溫區個數: 1個,B分度熱偶
l 控溫精度:±1℃,日本進口智能溫度控制儀,PID參數自整定超溫、欠偶、斷偶報警保護。
l 加熱元件: 優質U型硅鉬棒
l 氣體種類及流量范圍:氮氣:0.2~2L/min 氧氣 :0.2~2L/min
l 真空系統:配備機械泵,冷態極限真空度15Pa
l 最大加熱功率: 10Kw
l 空爐保溫功率: 約4Kw
l 外形尺寸約為:1250×750×1650(L×W×H)
l 建議升溫速率: 3℃~5℃/min
l 輸入動力電源: 三相電源,50HZ ,380V±10%;12KW
l 爐體表面溫升: ≤35℃
CVD(G)-06/50/1高溫真空氣氛管式爐爐管總長約1.25米加熱區長度為500mm。加熱元件采用優質U型硅鉬棒加熱,最大加熱功率10kw。兩端保溫區長各200mm,配有機械泵,可以在冷態條件下預抽真空
設備結構