適用于硬質合金、不銹鋼注射成型、不銹鋼無紡布、磁性材料、光電材料、稀土永磁材料、人造金剛石原料、陶瓷材料等的真空燒結。
主要完成高溫合金鑄件的均勻性、固溶、時效、回火等真空熱處理,同時還具有氮化功能。
用途 :適用于高速鋼、工模具鋼、不銹鋼的淬火,不銹鋼、鈦合金的固溶處理,磁性材料的真空熱處理。
臥式真空高壓氣淬爐是一種先進的熱處理設備,主要用于高合金鋼、工具鋼、鈦合金等材料的真空加熱和高壓氣體淬火。
高真空熱蒸發鍍膜設備是一種利用電阻加熱或電子束加熱使材料蒸發,并在高真空環境下沉積到基片表面形成薄膜的 物理氣相沉積(PVD) 設備。該系統廣泛應用于光學薄膜、電子器件、裝飾鍍膜等領域。
高真空多功能真空鍍膜機是一種集成了多種鍍膜技術(如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、離子鍍等)的先進設備,能夠在高真空環境下實現不同類型的薄膜沉積,滿足科研與工業中對復雜薄膜的需求。
高真空多源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱原理的物理氣相沉積(PVD)設備,通過多個獨立可控蒸發源(通常2-14個),在高真空環境(10??~10?? Pa)下實現:單質/合金薄膜的共蒸,多層復合結構沉積,梯度成分材料制備。
14源電阻式熱蒸發設備是一種超多材料共蒸系統,通過高真空環境(10??~10?? Pa)和電阻加熱蒸發,實現復雜組分薄膜的精確制備。
高真空六源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱蒸發原理的鍍膜設備,配備6個獨立蒸發源,可在高真空(10??~10?? Pa)環境下實現多材料共蒸或順序沉積,適用于復雜組分薄膜的制備。
團簇式高真空多功能鍍膜設備是一種模塊化、多腔室集成的先進鍍膜系統,可在高真空或超高真空(10??~10?? Pa)環境下實現多種鍍膜工藝的連續處理,避免樣品暴露大氣,提高鍍膜質量和效率。
1、真空室腔體:1套。外形:304優質不銹鋼D形前后開門真空室腔體1套,后門采用鉸鏈式方門,方便清洗真空腔體,真空室內部調試,維修以及取放物品,前門采用橫拉方門,真空室內部尺寸D350*480mm,前后門各配DN100視窗1套; 底部:有機源接口4套,JTFB-600風冷復合分子泵接口1套,CF25照明接口2套以及美國MCVAC水冷膜厚探頭接口2套;
真空室腔體:1套;外形:304優質不銹鋼D形前后開門(后門采用鉸鏈式方門,方便清洗真空腔體,真空室內部調試,維修以及取放物品,前門采用橫拉方門)真空室腔體1套(真空室內部尺寸D400*480mm),前后門各配DN100視窗1套; 底部:金屬蒸發源接口8套, JTFB-600風冷復合分子泵接口1套,CF25照明接口2套以及美國MCVAC水冷膜厚探頭接口2套; 頂部:樣品臺接口1套,電動擋板接口1套,KF16氣動角閥接口1套;
該設備是一臺超高溫超高真空蒸餾爐,主要利用不同成分在相同溫度下蒸汽壓及冷凝溫度不同的原理,用于高熔點稀有或稀土金屬熔煉及蒸餾提純。
鍍膜設備以蒸發源為主體,適用于實驗室制備金屬單質、氧化物等,也可用作教學及生產線前期工藝試驗等,整套設備操作簡便,綜合功能多,擴展空間大,適合及滿足大專院校的教學與科研工作。
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