遼寧有色金屬冶金設備

高真空熱蒸發鍍膜設備 285     

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高真空熱蒸發鍍膜設備是一種利用電阻加熱或電子束加熱使材料蒸發，并在高真空環境下沉積到基片表面形成薄膜的 物理氣相沉積(PVD) 設備。該系統廣泛應用于光學薄膜、電子器件、裝飾鍍膜等領域。

高真空多功能真空鍍膜機 269     

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高真空多功能真空鍍膜機是一種集成了多種鍍膜技術(如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、離子鍍等)的先進設備，能夠在高真空環境下實現不同類型的薄膜沉積，滿足科研與工業中對復雜薄膜的需求。

真空熱蒸發鍍膜系統 271     

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真空熱蒸發鍍膜系統是一種常見的物理氣相沉積(PVD)技術，通過加熱蒸發材料使其在真空環境中氣化，隨后凝結在基片表面形成薄膜。

多功能蒸鍍設備 310     

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多功能蒸鍍設備（Multi-functional Deposition System）是集成了多種PVD技術（如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射等）的復合型鍍膜設備，通常具備：模塊化真空腔體設計，多類型蒸發源/濺射靶兼容，基片多自由度運動系統，實時膜厚監測能力，輔助離子源/加熱裝置。

高真空多源熱蒸發設備 289     

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高真空多源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱原理的物理氣相沉積(PVD)設備，通過多個獨立可控蒸發源(通常2-14個)，在高真空環境(10??~10?? Pa)下實現：單質/合金薄膜的共蒸，多層復合結構沉積，梯度成分材料制備。

14源電阻式熱蒸發設備 256     

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14源電阻式熱蒸發設備是一種超多材料共蒸系統，通過高真空環境（10??~10?? Pa）和電阻加熱蒸發，實現復雜組分薄膜的精確制備。

三源熱蒸發設備 284     

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三源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱蒸發的鍍膜系統，配備3個獨立蒸發源，可在高真空（10??~10?? Pa）環境下沉積金屬或化合物薄膜。

高真空金屬鍍膜儀 264     

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高真空金屬鍍膜儀是一種利用物理氣相沉積（PVD）技術在真空環境中沉積金屬薄膜的設備，廣泛應用于科研、電子、光學及精密制造領域。其核心特點是高真空環境（10??~10?? Pa）和金屬蒸發/濺射鍍膜技術，可制備高純度、高均勻性的金屬薄膜（如Au、Ag、Al、Cu等）。

高真空六源熱蒸發設備 284     

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高真空六源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱蒸發原理的鍍膜設備，配備6個獨立蒸發源，可在高真空（10??~10?? Pa）環境下實現多材料共蒸或順序沉積，適用于復雜組分薄膜的制備。

團簇式高真空多功能鍍膜設備 278     

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團簇式高真空多功能鍍膜設備是一種模塊化、多腔室集成的先進鍍膜系統，可在高真空或超高真空（10??~10?? Pa）環境下實現多種鍍膜工藝的連續處理，避免樣品暴露大氣，提高鍍膜質量和效率。

單室四源高真空電阻式鍍膜設備 287     

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1、真空室腔體:1套。外形：304優質不銹鋼D形前后開門真空室腔體1套，后門采用鉸鏈式方門，方便清洗真空腔體，真空室內部調試，維修以及取放物品，前門采用橫拉方門，真空室內部尺寸D350*480mm，前后門各配DN100視窗1套; 底部：有機源接口4套，JTFB-600風冷復合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美國MCVAC水冷膜厚探頭接口2套;

單室八源電阻式鍍膜設備 280     

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真空室腔體:1套；外形：304優質不銹鋼D形前后開門(后門采用鉸鏈式方門，方便清洗真空腔體，真空室內部調試，維修以及取放物品，前門采用橫拉方門)真空室腔體1套(真空室內部尺寸D400*480mm)，前后門各配DN100視窗1套; 底部：金屬蒸發源接口8套， JTFB-600風冷復合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美國MCVAC水冷膜厚探頭接口2套; 頂部：樣品臺接口1套，電動擋板接口1套，KF16氣動角閥接口1套;

超高溫超高真空蒸餾爐 309     

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該設備是一臺超高溫超高真空蒸餾爐，主要利用不同成分在相同溫度下蒸汽壓及冷凝溫度不同的原理，用于高熔點稀有或稀土金屬熔煉及蒸餾提純。

雙室高真空鍍膜設備 281     

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一、電子束水冷樣品臺組件1件： 1、旋轉：57CM23步進電機，1件光電限位開關（前后兩點）； 2、升降：57CM23步進電機，配速比1:5減速器，升降2點接觸限位開關，觸摸屏上顯示電子束高點400mm，低點300mm，金屬源高點340mm，低點240mm，另取1點，可隨意定位； 3、樣品臺擋板：24V減速電機，2件限位開關。

單室高真空電阻式鍍膜設備 334     

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鍍膜設備以蒸發源為主體，適用于實驗室制備金屬單質、氧化物等，也可用作教學及生產線前期工藝試驗等，整套設備操作簡便，綜合功能多，擴展空間大，適合及滿足大專院校的教學與科研工作。

非自耗真空電弧爐 452     

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非自耗真空電弧爐主要供大專院?；蚩蒲袡C構在真空或保護氣氛下對少量(數十克至上百克)貴金屬或合金材料進行熔化處理。通過電弧放電的方式加熱并融化金屬原料，使之成為合金。

真空定向凝固爐 302     

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VIM 系列真空定向凝固爐是將金屬原料在真空狀態或保護氣氛中進行熔化凝固成型，利用設置的保溫與冷卻系統形成熱梯度，澆鑄工件通過精密的下拉機構來實現定向凝固的過程，制備出單晶等工件。

真空連鑄爐 293     

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真空連鑄爐是在真空條件下利用中頻感應加熱原理進行熔化金屬或金屬合金；通過特制的一套引錠機構拉鑄金屬及合金通過結晶器冷卻成型（板材、板材、管材）的現代化成型設備。

真空氫化爐 327     

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本爐是在真空狀態、加熱和充入氫氣條件下使物料在反應器皿中發生氫化反應。本設備包括反應罐、加熱系統、真空系統、進氣系統、控制系統、安全防護系統。

真空區熔提純爐 307     

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真空區熔爐主要分水平區熔和立式區熔二種。主要應用于金屬或合金在真空狀態或保護氣氛下的區熔提純和精煉。

真空懸浮熔鑄爐 313     

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VIM-HC真空懸浮熔鑄爐是在真空條件下將所熔煉的金屬或非金屬固體爐料，置于感應線圈所形成的高頻或中頻交變電場中，并利用通水冷卻的金屬坩堝作為磁場的“聚能器”，使能源磁場能量集中于坩堝容積空間，進而在爐料的表層附近形成強大的渦電流，一方面釋放出焦耳熱使爐料溶化，另一方面形成洛侖茲力場使熔體懸浮(或半懸浮)和攪拌。由于磁懸浮的作用，使熔體與坩堝內壁脫離接觸，這樣熔體與坩堝壁之間的散熱行為由傳導散熱改變為輻射散熱，從而導致散熱速度聚減。使熔體可達到很高的溫度，(1500℃—2500℃)宜于熔煉高熔點金屬或其合金。

真空壓力鑄造爐 237     

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真空感應熔煉壓力鑄造爐主要用于各類高溫合金、鐵基、鎳基合金及某些有色金屬及其合金在真空狀態或惰性氣體保護下，利用中頻感應加熱的原理進行熔化并充以正壓特定氣體的條件下進行澆鑄成型。最高可以充正壓達1.0MPa實現加壓凝固。

空速凝甩帶爐 297     

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VGI系列真空速凝甩帶爐是將金屬或合金材料在真空或保護氣氛中進行熔化、脫氣、合金化及精煉;并通過坩堝澆鑄至中間包再流粘到快淬水冷輥上，經急速冷卻形成薄片，并在儲罐內進行二次冷卻，使其成為合格的微晶薄片。

真空氮化爐 303     

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真空氮化爐、簡稱氮化爐，滲氮爐，用于金屬材料工件表面氮化，氮碳共滲，尤其適合有狹縫，深孔，盲孔工件的氮化處理。

真空高溫石墨化爐 332     

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真空高溫石墨化爐主要用于 C/C的石墨化燒結處理。復合材料具有優異的綜合性能，特別適于高溫領域，如航空、航天等方面。典型應用為飛機的渦輪 、剎車盤、活塞、機翼前緣、鼻錐等。

真空補焊箱（機匣等） 259     

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真空補焊箱（機匣等）主要用于鑄件在保護氣氛下補焊工作，焊后無氧化。

真空除氣爐（石墨膜殼） 296     

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凝殼爐鑄造用石墨型殼、陶瓷型殼真空下除氣處理及金屬材料的淬火后的回火及各種材料、零件真空下的脫脂除氣。

鈦合金真空退火爐 313     

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鈦合金真空退火爐主要用于鈦合金板材、管材等真空退火，能夠實現真空退火過程工藝參數檢測與全過程優化控制。

底裝式高壓固溶設備（盤管、直管） 378     

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主要用于石油、石化領域潔凈不銹鋼及航空、電力能源領域等薄壁不銹鋼管的退火、時效處理;也用于奧氏體不銹鋼管、鐵鎳基耐蝕合金管及高溫合金管等管棒材的固溶處理。

真空連續熱處理設備（直管、盤管） 285     

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主要用于電力能源領域、航空航天領域鎳基高溫合金管及馬氏體不銹鋼管等產品的退火、及時效處理等;也用于奧氏體不銹鋼管、鐵鎳基耐蝕合金管及高溫合金管等管棒材的固溶處理。