多功能蒸鍍設備(Multi-functional Deposition System)是集成了多種PVD技術(如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射等)的復合型鍍膜設備,通常具備:
模塊化真空腔體設計
多類型蒸發源/濺射靶兼容
基片多自由度運動系統
實時膜厚監測能力
輔助離子源/加熱裝置
技術指標:
1. 真空室的極限真空度達5*10-5pa,漏率為關機12小時≤5pa
2. 真空腔內配有集約樣品臺一套,配有大擋板和16套小擋板,手動控制,開關方便快捷,每個小擋板擋兩塊30*30mm樣片
3. 蒸發源共14套,其中10套有機蒸發源,4套金屬蒸發源??販鼐取?℃,可以實現溫度或電流補償實現蒸鍍速率穩定的功能
4.金屬蒸發源配4臺一帶一1000W可控硅調壓電源,通過
銅電極連接,兩端可夾鎢絞絲或者鉭舟,鎢絞絲可以蒸鍍絲狀或者大顆粒材料,鉭舟可以蒸鍍粉末狀材料,蒸發源采用陶瓷全密封,避免交叉污染
5. 有機蒸發源配10臺一帶一溫控電源,有機源溫度為室溫-500度,可以根據材料及用戶需求自行調節
6. 樣品臺具有旋轉、升降功能,可在線更換掩膜板一次,可同時裝載30mm*30mm樣品16塊。本產品每兩個樣品都配有小擋板,并且通過PLC控制步進電機對每個小擋板做16個定位,使機械手推拉小擋板,樣品與蒸發源之間的間距為200-300mm