高真空多源熱蒸發設備是一種基于電阻加熱原理的物理氣相沉積(PVD)設備,通過多個獨立可控蒸發源(通常2-14個),在高真空環境(10??~10?? Pa)下實現:
單質/合金薄膜的共蒸
多層復合結構沉積
梯度成分材料制備
真空:極限真空6*10 -5 帕
工作真空6*10 -4 帕
恢復工作真空時間:連接手套箱≤10分鐘
不連接手套箱,充干燥氮氣≤30分鐘
本套設備配有8個有機源及2個金屬源
金屬蒸發源和有機蒸發源可按客戶要求配置
膜厚探頭及膜厚儀有國產或者進口可選
金屬蒸發源配有1000w電源
有機蒸發源配有可控溫電源,控溫精度±1℃