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適用于硬質合金、不銹鋼注射成型、不銹鋼無紡布、磁性材料、光電材料、稀土永磁材料、人造金剛石原料、陶瓷材料等的真空燒結。
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主要完成高溫合金鑄件的均勻性、固溶、時效、回火等真空熱處理，同時還具有氮化功能。
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用途 ：適用于高速鋼、工模具鋼、不銹鋼的淬火，不銹鋼、鈦合金的固溶處理，磁性材料的真空熱處理。
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臥式真空高壓氣淬爐是一種先進的熱處理設備，主要用于高合金鋼、工具鋼、鈦合金等材料的真空加熱和高壓氣體淬火。
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陣列式PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一種高效、大面積的化學氣相沉積設備，通過等離子體激活反應氣體，在低溫下實現高質量薄膜的快速沉積。
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高真空雙室多功能鍍膜設備是一種集成了多種PVD(物理氣相沉積)技術的先進鍍膜系統，通過雙腔室設計實現高效率、無污染、多工藝組合的薄膜制備。
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高真空熱蒸發鍍膜設備是一種利用電阻加熱或電子束加熱使材料蒸發，并在高真空環境下沉積到基片表面形成薄膜的 物理氣相沉積(PVD) 設備。該系統廣泛應用于光學薄膜、電子器件、裝飾鍍膜等領域。
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高真空多功能真空鍍膜機是一種集成了多種鍍膜技術(如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、離子鍍等)的先進設備，能夠在高真空環境下實現不同類型的薄膜沉積，滿足科研與工業中對復雜薄膜的需求。
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2025年04月24日 ~ 27日 
2025年04月25日 ~ 27日 
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2025年05月09日 ~ 11日 
2025年05月16日 ~ 18日 
