高真空多功能真空鍍膜機是一種集成了多種鍍膜技術(如熱蒸發、電子束蒸發、磁控濺射、離子鍍等)的先進設備,能夠在高真空環境下實現不同類型的薄膜沉積,滿足科研與工業中對復雜薄膜的需求。
設備的主要配置:
1、真空室二個,一個有8個蒸發源(有機材料),另一個有4個蒸發源(金屬材料)。
2、四個源的真空室(金屬材料)附加一個手套箱,這種附加方法不但可使蒸發好的基片在此取出、而且還可使蒸發材料在保護氣體的環境下放入蒸發源。
3、樣品在兩個真空室之間進行傳遞,傳遞方式為軌道及軌道車電控傳遞。
4、每次可對四塊樣品進行蒸鍍,并可在線掩膜兩次(20mm×30mm)。
5、對樣品采用典鎢燈加熱,自動控溫。(最高200℃、精度±1℃)
6、金屬蒸發源采用鎢絞絲。
7、由于蒸發源比較多,又不能給每個蒸發源都配上電源,所以給每個真空室的蒸發源都加裝電源轉換裝置一套,電控轉換操作方便。
8、樣品臺二套(可電控升降、旋轉及定位交接和掩膜換位)。
9、有機室上蓋開啟系統一套(電動控制)。
10、PLC微機控制系統一套。
11、樣品由有機蒸發室傳遞到金屬蒸發室、至手套箱采用軌道式自動交接(由觸摸屏控制)。
12、恢復工作真空時間短,從大氣到工作真空(7×10-4Pa)時間30~40分鐘(暴露大氣前充干燥氮氣)。
13、超高真空密封主要采用如下技術:玻璃金屬焊接技術、陶瓷金屬焊接技術、刀口無氧
銅金屬密封技術等,整機主要采用金屬密封技術,前開門用氟膠圈,真空管路用不銹鋼金屬波紋管路(不用橡膠管路),采用超高真空閥門。
14. 運動部件的密封,采用磁力耦合及金屬波紋管密封技術。
15. 真空規用金屬規,密封口用刀口金屬密封結構。
設備工作技術指標:
1、設備極限真空度6×10-5Pa,工作真空度5×10-4Pa。
2、設備整體漏率:關機停泵12小時后,真空度≤10pa
3、 樣品臺加熱溫度室溫至200度,可調,控溫溫度±1度
4、 冷卻水循環量150L/h。
5、 電源:交流三相五線制380V,總功率20KVA。
6、 環境溫度10℃~30℃。