高真空熱蒸發鍍膜設備是一種利用電阻加熱或電子束加熱使材料蒸發,并在高真空環境下沉積到基片表面形成薄膜的 物理氣相沉積(PVD) 設備。該系統廣泛應用于光學薄膜、電子器件、裝飾鍍膜等領域。
設備主要技術參數:
1、 極限真空≤6*10-5pa
2、 恢復設備工作真空≤6*10-4pa,小于40min(新設備充干燥氮氣)
3、 蒸發舟配置手動磁耦合擋板
4、 設備配置樣品托架一套,掩膜板一套
5、 18個束源爐最高溫度為600℃,控溫精度為±1℃
6、 設備總體漏率:關機停泵12小時后,真空度≤10pa
7、 蒸發源與襯底間距180mm±60mm
8、 手套箱的水氧含量小于1ppm
設備主要配置:
1、 真空腔體采用真空專用304#不銹鋼制造,內徑480mm,高495mm(可根據實際需要進行定制)
2、 鉭蒸發舟組件6套,束源爐18套
3、 蒸發舟加熱電源2臺,束源爐加熱電源6臺,并配置手動轉換機構
4、 配置CF150超高真空閘板閥二臺,配置CF35超高真空角閥二支,配置放氣閥二支,配置CF16充氣閥二支,電阻規二支,電離規二支
5、 可升降可旋轉樣品沉積轉臺,基片架機構一套,旋轉速度2~30轉/分連續可調
6、 過渡室配置CF200閘板閥二臺
7、 烘烤照明系統一套、襯底總擋板一套、CF100玻璃金屬觀察窗及擋板二套及CF63玻璃金屬觀察窗及擋板一套、金屬陶瓷焊接電極若干、控制柜二套
8、 配置600L/S分子泵二臺、配置2XZ-8機械泵二臺、前級管路三套,配置¢32不銹鋼金屬波紋管管路