電阻式蒸發鍍膜設備是一種利用電阻加熱原理使鍍膜材料蒸發,并在真空環境中沉積到基片表面形成薄膜的物理氣相沉積(PVD)設備。
此設備主要通過電阻加熱的方式,實現鍍膜功能,一體式結構有效的節約空間。
適用范圍:
主要適用于制備金屬膜、介質膜、有機材料薄膜及掃描電鏡制樣等。
該設備操作簡便,使用靈活,適合于高校及科研院所的教學與科研工作。
1.采用機械泵與分子泵的抽氣系統,真空環境清潔。
2.極限真空:≤5.0x10-5Pa 。
3.恢復工作真空時間≤40min(≤6.0x10-4Pa)
4.配置金屬蒸發源(鎢極),有機束源爐等;可在線測量膜層厚度。
5.樣品可自轉,可實現無間隙在線掩膜2次;樣品可在線升降,以滿足最佳的鍍膜工藝要求。
6.蒸發電源采用1帶二模式,電控切換。