高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV
型號:OTF-1200X-4-RTP-C3HV
產地:廣東
產品介紹
高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統和高真空機組組成,可進行半導體基片、
太陽能電池及其它樣品(尺寸可達3″ )的退火,并采用 10KW的紅外燈進行加熱,最快升溫速度可達 120℃/s,配有RS485 接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線。
產品型號
高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV
安裝條件
本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:不需要
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設備腔室內需充注氣體,需自備氣瓶氣源
4、工作臺:尺寸1600mm×600mm×700mm,承重150kg以上
5、通風裝置:需要
主要特點
1、雙層Al2O3纖維鋼構,無需水冷或風冷。
2、內爐膛表面涂有進口高溫
氧化鋁涂層,可以提高設備的加熱效率及延長儀器的使用壽命。
3、PID控制器,可以設置30段升降溫程序,并設有過熱保護和斷偶功能。
4、已通過CE認證。
技術參數
1、電源:單相208V-240V AC 50Hz/60Hz 10KW
2、石英管:外徑?110mm,內徑?103mm,長380mm
3、加熱元件:8根紅外燈管,燈絲長200mm,絲圈?10mm,燈長300mm
4、加熱區:300mm
5、工作溫度:最高溫度1100℃
6、控溫精度:±0.5℃
7、最高升溫速度:RT-800℃時為50℃/s,800℃-1000℃時為10℃/s
8、溫控儀:可控硅(SCR)PID自動控制
9、真空法蘭:不銹鋼,帶有水冷接口和針閥,雙層高溫O型圈密封,長時間在>900℃條件下運行必須采用水 冷,循環水流量為0.5m3/hr
10、真空度:10-2torr(機械泵),10-5torr(分子泵)
11、質量流量計:3個,MFC1范圍0-100sccm,MFC2范圍0-200sccm,MFC3范圍0-500sccm,精度1±%FS
12、混氣罐:?80mm×120mm
產品規格
尺寸:爐體760mm×330mm×530mm,真空混氣系統600mm×600mm×597mm
重量:爐體45kg,真空混氣系統75kg