高真空晶體爐
用途概況:
高真空晶體爐采用感應加熱、電阻加熱方式,可用銥金、鉑金、石墨、鉬等坩堝。
主要用途和適用范圍:
可以生長氧化物晶體(如YAG:Nd、Al2O3、TeO2、LiTaO3、LiNbO3等),是科研院所、企事業單位新晶體材料的提拉法、下降法、泡生法、溫梯法生長性能研究和生產的優良可靠設備。
主要功能與特點:
1.高精度絲杠、高質量電機使得傳動系統更加精確和穩定。
2.模塊化電路設計,控制電路更加穩定、可靠、易于維護。
3.高精度重量傳感器保證了出色的自動直徑控制性能。
4.全電腦控制,晶體外形控制更出色、更少人工監測。
5.關鍵參數實時呈現,晶體生長過程一目了然。
6.緊急情況自動處理,為設備和坩堝提供一定的安全保障。
技術參數:
1.原理加熱采用感應加熱方式,坩堝在石英管內,封裝在外殼內。分子泵外置。
2.石英桶80*90*400用于放置坩堝保溫材料。
3.中頻功率15KW,2.5kHz
4.真空5*10-3PA冷爐極限真空
5.慢速提拉0.1-10mm/h
6.快速提拉10-70mm/min
7.旋轉速度0.1-50r/min
8.坩堝35*35,可加熱至1600度材質Pt
9.下部密封與石英桶密封,循環水強制冷卻。抽真空接口,充氣口。
10.上部密封與石英桶密封,循環水強制冷卻,與上提拉波紋管接口
11.旋轉機構包括旋轉電機,旋轉密封磁流體
12.提拉機構旋轉機構安裝上提拉機構移動塊上。提拉機構包括,步進電機,減速機,滾珠絲杠、導軌,立柱和立柱旋轉機構。
13.HMI用于設定升降問程序,運行,停止、暫停,中頻啟停。升降控制包括,慢升,慢降,快升和快降及速度大小。(快升為手按住升或將,松開停止)旋轉控制包括:正轉,反轉,停止,速度大小。
14.指示燈三色,紅、黃、綠,用于故障報警。
15.為控制柜包括溫度控制,運動控制電器等安裝參數。