鹵素燈RTP立式快速退火爐
CY-RTP1000-Φ200-300-V-T型鹵素燈RTP立式快速退火爐是一款專為半導體及材料科學領域設計的高性能設備。該設備采用革新的鹵素燈加熱技術,能夠實現真正的基底溫度測量,無需傳統溫度補償,溫度控制精準且重復性高。其溫度范圍為150-1250℃,加熱速率可達10-150℃/S,具備優異的溫度均勻性和快速升溫能力。此外,設備配備不銹鋼冷壁真空腔室,真空度可達5×10?3 Torr甚至低至5×10?? Torr,兼容常壓和多種氣氛環境,適合多種材料的退火處理。其快速數字PID溫度控制和觸摸屏操作界面,進一步提升了系統的穩定性和易用性。該設備廣泛應用于半導體制造中的離子注入退火、快速熱處理、合金化等工藝,是國際知名半導體公司及科研團隊的首選設備。
產品型號:CY-RTP1000-Φ200-300-V-T
簡單介紹:
鹵素燈RTP立式快速退火爐是一款8寸片快速退火爐,采用革新的加熱技術,可實現真正的基底溫度測量,不需要采用傳統快速退火爐的溫度補償,溫度控制**,溫度重復性高,客戶包括國際上許多半導體公司及知名科研團隊,是半導體制程退火工藝的理想選擇
詳情介紹:
鹵素燈RTP立式快速退火爐是一款8寸片快速退火爐,采用革新的加熱技術,可實現真正的基底溫度測量,不需要采用傳統快速退火爐的溫度補償,溫度控制**,溫度重復性高,客戶包括國際上許多半導體公司及知名科研團隊,是半導體制程退火工藝的理想選擇。
鹵素燈RTP立式快速退火爐技術參數: