產品應用:
真空或氣氛保護下,通過石墨或金屬電阻加熱對材料進行熱處理。
本爐用于各種金屬材料(高溫合金、鈦合金、工模具鋼等)在真空或惰性氣體保護環境下的高壓氣體淬火,光亮退火,固溶時效,回火等熱處理工藝。
技術參數:
型號HVHF-M(中低溫)HVHF-CG(超高溫)HVHF-QZ(高壓氣淬)
極限真空度6.67×10-4Pa6.67×10-4Pa6.67×10-3Pa~6.67×10-4Pa
壓升率0.67Pa/H0.67Pa/H0.67Pa/H
抽氣系統分子泵系統擴散泵/分子泵機組
真空測量系統數顯復合真空計
最大溫區尺寸(可按客戶要求定制)Φ500×700mmΦ200×300mm200×200×300mm
淬火方式 無 無高壓氣淬
加熱方式雙區加熱單區/雙區加熱
最高工作溫度石墨加熱 2500℃
鎢加熱 2200℃鉬加熱 1600℃
溫度均勻性≤±5℃≤±5℃≤±5℃
溫控精度±3℃±3℃±2℃
隔熱屏石墨加熱:硬質碳氈隔熱層
鎢加熱:全金屬屏隔熱層全金屬保溫屏
控制系統觸摸屏+PLC全自動控制系統配備
設備尺寸(L×W×H,mm)
(根據溫區要求變化)1700×1600×30001500×1200×17002500×2000×2000
用電需求
(按設備實際尺寸變化)100KW,380V/3P/50Hz70KW,380V/3P/50Hz30KW,380V/3P/50Hz
★設備自帶進水分水器、回水回流器閥門及管路;不配置水循環系統;
★可選配水循環系統:包括不銹鋼水箱、水泵、閥門及管路等;
★可根據用戶需求非標定制。