XPL-2透反兩用偏光顯微鏡
XPL-2透反兩用偏光顯微鏡是一款廣泛應用于地質、礦產、冶金、化工、半導體工業以及藥品檢驗等領域的專業實驗儀器。它采用先進的光學技術,具備透射和反射偏光觀察功能,能夠進行偏光觀察、正交偏光觀察、錐光觀察以及顯微攝影。顯微鏡配備石膏λ、云母λ/4試片、石英楔子、移動尺和數碼圖像等附件,放大倍數范圍為40X-630X,滿足多樣化的實驗需求。
商品描述:
XPL-2透、反偏光顯微鏡是地質、礦產、冶金等部門和相關高等院校常用的專業實驗儀器。近年來,隨著光學技術的不斷進步,作為光學儀器的偏光顯微鏡,其應用范圍也越來越廣闊,許多行業,如化工的化學纖維,半導體工業以及藥品檢驗等等,也廣泛地使用偏光顯微鏡??晒V大用戶作偏光觀察,正交偏光觀察,錐光觀察以及顯微攝影,配置有石膏λ、云母λ/4試片、石英楔子和移動尺、數碼圖像等附件。
放大倍數:40X-630X
配置表: