高真空濺射鍍膜儀 Leica EM SCD500
Leica EM SCD500高真空濺射鍍膜儀是一款無油高真空系統,專為FE-SEM觀察前的樣品鍍膜、TEM/EDX噴涂以及多層膜樣品制備設計。它具備多種功能,包括金屬濺射鍍膜、輝光放電、蝕刻(樣品清潔)、碳絲蒸發鍍膜、碳棒蒸發鍍膜、金屬熱阻蒸發鍍膜,還可選配液氮冷臺(適配EM VCT100)。設備配備金屬靶檔板,適用于特殊濺射靶材的預濺射,確保鍍膜純度??蛇x配石英膜厚監控器,實現程序化控制膜厚并反饋鍍膜儀。樣品室尺寸有標配?106mm和選配?205mm(可容納wafer 152mm/6"圓形或127mm/5"方形)兩種規格。操作簡單,帶有LED指示,機身印有操作說明。
無油高真空系統,適合FE-SEM觀察前樣品鍍膜機TEM/EDX噴涂要求;也可應用于制備多層膜樣品
*功能:金屬濺射鍍膜/輝光放電/蝕刻(樣品清潔)/碳絲蒸發鍍膜/碳棒蒸發鍍膜/金屬熱阻蒸發鍍膜/加裝液氮冷臺(適配EM VCT100)
*帶有金屬靶檔板,適用于特殊濺射靶材的預濺射,確保鍍膜純度
*可選配石英膜厚監控器,可程序化控制膜厚,并反饋鍍膜儀
*樣品室尺寸:標配?106mm,選配?205mm(可容納wafer 152mm/6"圓形或127mm/5"方形)
*操作簡單,帶有LED指示,機身印有操作說明