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    在線膜厚測試儀

    在線膜厚測試儀

    272
    規格/型號：F30
    品牌：納騰
    應用領域：檢測設備
    產地：上海 - 上海
    廠家/供應商：上海納騰儀器有限公司
    咨詢電話:：02164283335（請說明信息源自“中冶有色網”）
    更新時間：2025-07-08
    級別：待認證

    在線膜厚測試儀說明介紹

    F30在線膜厚測試儀

    F30在線膜厚測試儀


    一、簡介

    KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量，其測量范圍從nm-mm，可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量，被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產品，可測量從幾mm到450mm大小的樣品，薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。FilmetricsF30系列的產品通過光譜反射率系統，實時在金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)、分子束外延（MBE）和其他沉積工藝中測量沉積率、沉積層厚度、光學常數(n和k值)和半導體以及電介質層的均勻性，被測量的薄膜可以是平滑和半透明的，或輕度吸收的F30可檢測監控反射率、厚度和沉積率通過分子束外延和金屬有機化學氣相沉積技術，測量薄膜。這實際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的多種半導體材料.

    測量原理-光譜反射

    光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質，半導體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應（絕大多數薄膜都是旋轉對稱）。因為不涉及多種移動設備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的首選，而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。

    二、主要功能

    l主要應用

    測量沉積率、沉積層厚度、光學常數(n和k值)和半導體以及電介質層的均勻性

    ?平滑和半透明薄膜

    ?輕度吸收薄膜

    ?實時測量膜厚

    l技術能力

    光譜波長范圍：380-1050nm

    厚度測量范圍：15nm-70μm

    較為大地提高生產力

    低成本：幾個月就能收回成本

    A精確：測量精度高于±1%

    快速：幾秒鐘完成測量

    非侵入式：完全在沉積室以外進行測試

    易于使用：直觀的Windows?軟件

    幾分鐘就能準備好的系統

    三、應用

    半導體制造：光刻膠、氧化物、氮化物

    液晶顯示器：液晶間隙、聚酰亞胺保護膜、納米銦錫金屬氧化物

    生物醫療原件：聚合物/聚對二甲苯涂層、生物膜/氣泡球厚度、藥物涂層支架

    微機電系統：硅膜、氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡

    光學鍍膜：硬鍍膜、增透鍍膜、Filters濾光

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    在線膜厚測試儀 檢測設備
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