全部
▼
熱搜：
107
工作原理
BEM-50MW 采用無限遠光路設計，光線經物鏡后形成平行光束，通過鏡筒內的分光棱鏡實現三目觀察與成像系統同步運行。其核心光學模塊包含平場消色差物鏡組（4×-100×）與高數值孔徑（NA 0.9）的 100× 油鏡，配合柯勒照明系統，可消除像散與場曲，確保在 25mm 視場內實現均勻照明。設備支持明場、暗場、相差及熒光觀察模式，熒光模塊配備六工位激發轉盤與 UV/藍/綠三色濾光片，通過電動光閘控制激發光強，避免光毒性損傷樣本。
應用范圍
該設備廣泛應用于金屬材料金相分析、半導體晶圓缺陷檢測、生物組織切片觀察及熒光標記樣本成像。例如，在材料科學領域，可定量分析晶粒尺寸與析出相分布；在生物醫學領域，支持 FISH 熒光原位雜交與免疫組化檢測，搭配 1200 萬像素冷 CCD 相機可實現活細胞動態追蹤。
技術參數
光學系統：無限遠校正 UIS2 系統
物鏡配置：4×（NA 0.1）、10×（NA 0.25）、40×（NA 0.65）、100×（NA 0.9 油鏡）
載物臺：352mm×256mm 超大型平臺，雙向 200mm 電動移動行程
調焦系統：25mm 粗微動調焦，微調格值 0.002mm
照明系統：6V20W 鹵素燈與 LED 雙模式，亮度連續可調
圖像輸出：支持 HDMI 與 USB 3.0 雙接口，兼容 4K 分辨率顯示
產品特點
高精度成像：采用德國進口直線電機驅動載物臺，重復定位精度≤0.5μm，確保多層樣本精準對焦。
智能化操作：配備 10.1 寸觸摸屏與可編程功能按鍵，可存儲 20 組參數設置，支持一鍵切換觀察模式。
模塊化擴展：可選配長工作距離物鏡、數碼攝像頭及專業圖像分析軟件，升級為數字顯微分析系統。
環境適應性：IP21 防護等級設計，可在 10-40℃、濕度≤80% 環境下穩定運行，滿足車間與實驗室多場景需求。
分享 0
舉報 0
收藏 0
反對 0
點贊 0
湖南 - 長沙
2025年08月07日 ~ 09日
