設備介紹
LCD觸摸屏CVD高溫爐是一款適用于CVD工藝的高溫管式爐,采用雙層殼體結構,并帶有風冷系統,用于降低殼體表面溫度;采用PID30段可編程序智能控溫,移相觸發;爐膛采用
氧化鋁多晶體纖維材料,保溫性能好,溫場均衡;智能控溫不需要人看守。這款CVD爐可用于
碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
產品優勢
帶風冷系統的雙層殼體
采用雙層殼體結構,并帶有風冷系統,使得殼體表面溫度始終保持在安全范圍內,內爐膛表面涂有進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐膛潔凈度
可設置30段升降溫程序
控溫系統采用PID方式調節,可以設置30段升降溫程序,控溫精度可以達到±1℃。
優良的動密封系統
爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便,密封性強,不銹鋼金屬法蘭,帶閥門和相關接口,可抽真空充保護氣體。
技術參數
設備名稱 LCD觸摸屏CVD高溫爐
設備型號 KJ-TCVD1100-S80CK1W
高溫爐殼體 采用雙層殼體結構,并帶有風冷系統,內爐膛表面涂有進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐膛潔凈度
加熱元件 電阻絲
最高溫度 1200℃
工作溫度 ≤1100℃
升溫速率 1-10 ℃/min
爐管材質和尺寸 石英管: 直徑:80mm x 長度:1000 mm (其他尺寸可按客戶需求定制)
加熱區長度 總加熱區440mm
控制方式 LCD液晶觸屏
熱電偶 N型熱電偶,3個校準熱電偶測量的溫度直接顯示在爐體的液晶顯示屏上
控溫系統 PID30段程序化控溫
控溫精度 +/- 1 ℃
真空密封系統 兩個不銹鋼密封法蘭(上面已安裝真空計和截止閥)
高真空站結構 高真空站控制面板(基本用于分子泵速度和真空水平):
渦輪泵和前級泵-干泵和石英管之間的所有連接、配件和閥門截面均符合KF-25連接標準。
真空度 6.7*10-3PA(空置、室溫條件下)
混氣系統 三個質量流量計
三路質量量程
含機械壓力表、針閥、燃氣通道、燃氣混合閥、截止閥及配件等。
彩色屏控制,閥門材質為不銹鋼
售后服務 質保一年,終身保修