權利要求書： 1.氣缸測厚儀，其特征在于：氣缸位于形塊上，所測氣缸的壁厚H由光斑坐標、氣膜厚度h1和H2得到；所述的H2是探測頭下方氣缸外圓的下母線上的點到形塊槽底的距離；驅動機構使氣缸相對于導軌移動或轉動；探測桿上的探測頭與孔壁之間存在氣膜；光發射裝置安裝于探測頭上，位于孔內或孔外；當氣缸沿導軌運動時，探測桿、探測頭繞第一運動副和第二運動副旋轉；探索桿位置的變化引起光發射裝置、光線和光接收裝置上光斑位置發生變化；運算顯示部分對光斑位置信息進行處理；第一運動副可以在孔內或孔外，只有一個旋轉自由度；第二運動副只有一個旋轉自由度；當探測桿脫離氣缸時，位于下支撐、氣體、上支撐上，或位于其下方沒有氣體的物體上，或自然下垂；壓縮氣體流過探測頭氣孔和上支撐氣孔；探測頭與孔壁之間氣膜的厚度h1由光斑坐標和檢測前已知壁厚的輔助氣缸的參數得到；氣壓為Ps的氣體，經放大閥(21)的閥口a，流到與探測桿相連的上支撐氣孔，進入上支撐與下支撐之間的氣腔，再經上支撐與下支撐之間的縫隙進入大氣；壓力為Ps的氣體經閥口a后壓力降至P，再經上述縫隙壓力降至0；Ps的另一路經節流閥把氣壓降至Pd，流到探測頭氣孔，使探測頭與孔壁之間形成厚度為h1的氣膜；Pd還被引至放大閥(21)的中部；Ps還經定壓閥(20)減壓至恒定的氣壓Pc，并引至放大閥(21)的下部；PcA加彈簧力與PdA平衡，其中A為膜片的面積；當壁厚增加時，h1減小，Pd增加，閥芯(22)下降，開口a加大，P升高，通過上支撐氣孔流入氣腔的氣體對探測桿向上的作用力加大，探測桿上移，光斑也上移；當壁厚減小時，探測桿下移，光斑也下移。
2.根據權利要求1所述的氣缸測厚儀，其特征在于：光發射裝置發出的光線穿過遮光罩一側的孔，射向光接收裝置，其上光斑的變動量大于探測頭的徑向位移。
3.根據權利要求1所述的氣缸測厚儀，其特征在于：運算顯示部分能輸出壁厚、壁厚的方差、均值、中間值。
4.根據權利要求1所述的氣缸測厚儀，其特征在于：由光學測距儀或機械測距儀獲得氣缸移動后的軸向坐標。
說明書： 氣缸測厚儀技術領域[0001] 本發明屬于機械加工與檢測領域，具體涉及氣缸測厚儀。背景技術[0002] 現有技術檢測氣缸時，常常需要將百分表、千分表放入氣缸內，比較適用于檢測直
聲明：
“氣缸測厚儀” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：中北大學
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2025年07月09日 ~ 11日 
