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    一種半導體制程中的設備監控方法

    819   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 06:27:31
    本發明公開了一種半導體制程中的設備監控方法，其中，包括如下步驟：步驟a、于半導體制程開始前制定一固定樣本數量的抽樣方案；步驟b、于工藝步驟開始前根據所述抽樣方案確定哪些晶圓需要被抽樣，哪些晶圓無需被抽樣，將需要被抽樣的晶圓平均的分配到每臺工藝設備；步驟c、執行工藝步驟；步驟d、以所述抽樣方案抽樣，根據所述抽樣的結果，對所述被抽樣的晶圓進行在線檢測；步驟e、重復步驟b至步驟d直至所有工藝步驟執行完畢；步驟f、對所有晶圓進行電氣性能檢測。本發明的有益效果是：通過抽樣方案和動態風險標志配合，使半導體制程中的潛在風險最小化。
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    聲明：
    “一種半導體制程中的設備監控方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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