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    轉印倒置模板法制備有序鍺納米點陣

    946   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 06:32:53
    本發明涉及半導體低維結構薄膜的制備方法，特別是利用倒置多孔氧化鋁模板，轉印有序點陣技術，利用濺射技術制備有序高密度鍺納米點陣的制備方法。本發明采用經典兩步陽極氧化法制備多孔氧化鋁不通孔模板，然后利用濺射技術，在保持高真空環境的工作室中，以高純氬氣為工作氣體，工作室濺射壓強0.5Pa～2Pa，生長溫度600～800℃，濺射功率50W～100W條件下，在被移植到硅基底材料上生長厚度＜50nm硅緩沖層完成有序結構的轉印，然后呈有序結構分布的硅緩沖層上生長鍺納米點陣。本發明具有生產成本低、可控性好、所制備鍺納米點陣具有密度高，有序性好等特點。
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