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    化學氣相沉積清洗終點監測方法及其系統

    1100   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 06:46:27
    本發明公開了一種化學氣相沉積清洗終點監測方法，包括：將三氟化氮氣體通入CVD腔室進行清洗；將三氟化氮氣體在對CVD腔室清洗過程中產生的光束進行頻譜分析；檢測所述光束中是否存在四氟化硅光譜；若是，則繼續監測所述光束的頻譜；若否，則發出清洗終點指令，停止對CVD腔室的清洗。本發明還提供了一種化學氣相沉積清洗終點監測系統，包括：清洗裝置，用于將三氟化氮氣體通入CVD腔室進行清洗；光譜分析裝置，用于將三氟化氮氣體在對CVD腔室清洗過程中產生的光束進行頻譜分析；監測控制裝置，用于檢測所述光束中是否存在四氟化硅光譜。本發明提供的技術方案具有節省清洗時間，減少資源浪費和提高沉積效率的優點。
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    “化學氣相沉積清洗終點監測方法及其系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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