提出了一種用于產生指示樣本(110)中的一種或多種預定成分的存在的分析數據的系統(100)。該系統包括用于將粒子流(130)引向樣本(110)的源設備(120),用于根據散射角(θ)測量從樣本(110)散射的粒子的分布的檢測器設備(140)和用于基于所測量的散射粒子的分布和基于指示一種或多種預定成分對散射粒子的分布的影響的參考信息來產生分析數據的處理設備(170)。與每個散射粒子有關的散射角是粒子流的到達方向與散射粒子的軌跡(160)之間的角度。該系統利用與不同同位素、不同化學物質和不同異構體有關的散射的不同方向特性。
聲明:
“用于成分分析的系統和方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)