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    化學機械拋光的方法、用于化學機械拋光的清洗裝置

    774   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 06:55:30
    一種化學機械拋光方法，包括：將待拋光的晶片放置于化學機械拋光設備中，對晶片進行化學機械拋光，還包括通過清洗溶液對晶片進行清洗，實時測量清洗晶片后形成的處理溶液的開路電位，在處理溶液的開路電位達到開路電位閾值時，停止清洗。相應地，本發明還提供一種用于化學機械拋光的清洗裝置，包括清洗單元、取樣單元、實時測量單元、閾值測量單元和控制單元。本發明可以有效減少晶片表面的有機殘留物。
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