本發明創造提供一種檢測8英寸拋光片痕量元素的檢測方法,該檢測方法首先通過化學機械拋光的方法制備8英寸拋光片;然后通過X熒光光譜儀檢測硅拋光片中的痕量元素并進行數據分析;最終得出各痕量元素的種類和含量。本發明創造具有的優點和積極效果是:采用半導體制造技術企業常用設備全反射X熒光光譜儀對8英寸拋光片痕量元素,不需要復雜的樣品前期處理過程,測定步驟簡單,高效快速,檢測結果準確度高,有著廣闊的應用前景。
聲明:
“檢測8英寸拋光片痕量元素的檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)