一種研磨墊輪廓的控制系統,適于包括研磨墊、研磨臺、研磨頭以及調節器的一化學機械研磨裝置,其中研磨墊包含一透光區。而這種控制系統包括至少一光源、一檢測器以及一處理器。而光源設置于研磨臺中,且對應于研磨墊的透光區。檢測器則位于研磨墊上方,以檢測通過研磨墊的透光區的光源所發出的光。處理器根據檢測器所檢測的結果,來估算研磨墊的厚度,以判定研磨墊的輪廓狀況,進而發出一處理訊號至調節器,借以調整調節器的處理程序。由于本發明能在線控制研磨墊輪廓,所以可降低關于晶圓內不均勻度的變量而獲致平坦的研磨墊輪廓。
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“化學機械研磨裝置及其研磨墊輪廓的控制系統與調節方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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