本發明公開了一種氣體組分自動控制的等離子體化學氣相沉積設備,包括真空腔室,所述真空腔室上開設有快接接口,所述快接接口通過取樣氣路與用于檢測真空腔室內氣體組分的氣相檢測系統連接,氣相檢測系統的輸出端與控制及反饋系統連接并將檢測結果輸出至控制及反饋系統,控制及反饋系統的輸出端與質量流量計連接,控制及反饋系統輸出控制信號來控制質量流量計給氣量的大小。通過在等離子體化學氣相沉積設備中添加氣相檢測系統和控制及反饋系統來實時檢測并調控真空腔室內的氣體組分,以達到提高成膜質量和提高成膜速率的效果。
聲明:
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