本公開實施例提供一種用于化學機械研磨系統的平臺。上述平臺包括在平臺之中的一或多個凹部,以安置用于研磨/平坦化工藝的各種構件。平臺包括第一凹部以及第二凹部。第一凹部位于第二凹部之下。終點檢測器放置在第一凹部中,且檢測器蓋可被放置在第二凹部中。密封裝置被提供在終點檢測器與檢測器蓋之間的空間,以防止任何外部或外來的材料接觸終點檢測器。拴件被用以將檢測器蓋拴至平臺,也提供附加的防護以防止外來的材料接觸被容納在凹部的構件。
聲明:
“用于化學機械研磨系統的平臺” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)