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    使用化學放大抗蝕劑的透明導電膜的形成方法

    1013   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:00:47
    提供一種用化學放大抗蝕劑對銦-錫-氧化物(ITO)膜進行圖形刻蝕時在抗蝕劑顯影后即使暴露在白色光線下也不發生抗蝕劑剝離和密接性下降的ITO膜的圖形刻蝕方法。在基板上首先形成非晶態ITO膜,直接涂敷負型化學放大抗蝕劑,進行照射、顯影。所獲得的在非晶態ITO膜上有抗蝕劑圖形的結構即使暴露在白色光下,也不發生抗蝕劑剝離和密接性下降,所以不會對后面的工序產生不良影響,能進行充分的目視檢查。關于目視檢查中斷定為正品的該結構,將抗蝕劑圖形作為掩模,對非晶態ITO膜進行刻蝕,將抗蝕劑圖形除去后,通過用ITO的結晶化溫度以上的溫度加熱,能獲得具備良好的耐藥性及導電性的結晶化ITO圖形。
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